最后一个，就是短波激光光源。

芯片光刻，是通过工作台的移动，来改变光刻聚焦，对光刻胶进行刻蚀。它的运动控制部件优劣，直接决定了光刻的精度，而移动速度，又决定了产率，可以说是光刻机最核心的子系统。

要保证最佳的对焦调整，工作台的最小移动距离必须非常小，最好是一个纳米一个纳米移动。

实际制作中当然达不到这样的精度。

以飞利浦最新款的光刻机为例，它的最小移动距离实际只有300纳米。加上光源波长，它的光刻效果，最小线宽达到了三百五十纳米。

其他厂商差不多也是同一水平，有区别也差距不大。

这就是当前国际最先进的光刻机制程能力。

所谓一代设备，一代产品。

最新的奔腾2266处理器，采用的就是350纳米线宽的制程工艺。

白云天进入到实验室，对李莲道：“你们这边进度怎么样？”

“非常顺利！”李莲给了他一个笑脸。

她带领的小组，负责制造光刻机最关键的工作台子系统，其中最重要的就是运动部件。

为了保证运动的稳定性，移动部分不是普通导轨，而是空气悬浮导轨。

从制造难度来说，它不算太大。

无非是一两百纳米的加工精度，对才鸟枪换炮的钢铁城来说一点难度也没有。

之所以它会成为光刻机研制的拦路虎，还是因为导轨设计需要运用到非常高深的流体力学知识，才能验算出怎样设计才会将气流对工作台稳定性的影响降到最低，从而设计出满足工业需要的产品。

偏偏这一点，对白云天最不构成阻碍。